氨法脫硫過程中，設(shè)備腐蝕原因主要包括以下三個：1、氯離子點(diǎn)腐蝕：煤氣中的含氯物質(zhì)燃燒后形成的氯離子轉(zhuǎn)入廢氣，進(jìn)而被漿液吸收進(jìn)入液相環(huán)境中。在硫銨漿液濃縮過程中，這些氯離子與金屬表面鈍化膜中的陽離子結(jié)合形成可溶性氯化物，使金屬設(shè)備表面局部形成點(diǎn)狀腐蝕，發(fā)展程度加深后成為孔狀腐蝕，影響設(shè)備長周期運(yùn)行；2、結(jié)晶腐蝕：硫銨或亞硫銨結(jié)晶體積膨脹后使設(shè)備內(nèi)部產(chǎn)生應(yīng)力而引起材料腐蝕，稱為結(jié)晶腐蝕。結(jié)晶腐蝕主要是硫銨或亞硫銨溶液滲入到防腐層內(nèi)表面或裝置縫隙間，逐漸形成固態(tài)結(jié)晶，引起材料晶格膨脹，防腐失效；3、磨損腐蝕：磨損腐蝕是溶液及溶液內(nèi)高速流動的結(jié)晶顆粒對設(shè)備產(chǎn)生的碰撞、摩擦。磨損腐蝕主要存在于加熱器、攪拌漿、各級泵吸入側(cè)或葉片出口端等旋轉(zhuǎn)設(shè)備內(nèi)部。

脫硫設(shè)備優(yōu)化方案：脫硫設(shè)備防腐主要是需要合理選擇抗腐蝕材料，同時嚴(yán)控生產(chǎn)過程中各項工況參數(shù)，避免頻繁開停工。為此，針對不同設(shè)備和部位主要選擇碳鋼襯玻璃鱗片及過流部件雙相鋼。

硫銨漿液參數(shù)控制：硫銨生產(chǎn)中，溶液pH值越低則脫硫越徹底，SO2脫除率越高，但pH值降低會引起體系酸度增大，設(shè)備腐蝕加?。蝗魀H值過高，雖然設(shè)備腐蝕減小，但會造成脫硫效率降低和氨逃逸量增加。綜合考慮，脫硫系統(tǒng)漿液體系pH為5.2~5.9。

氣溶膠防治及問題解決方案：氣溶膠是排放的煙氣溫度低于酸的露點(diǎn)溫度，煙氣中脫硫劑與SO2反應(yīng)，在煙囪出口形成的白色拖尾現(xiàn)象。與正常水霧相比，氣溶膠在煙囪處擴(kuò)散困難。為防止脫硫后形成氣溶膠，選擇塔徑較大的板式塔，降低空塔氣速，設(shè)備捕霧段，控制脫硫反應(yīng)溫度在約50°C，提高脫硫后煙氣溫度等方法。

氨逃逸分析及控制優(yōu)化：氨氣不能完全參與脫硫脫硝反應(yīng)，而是存在部分氨氣逃逸現(xiàn)象。氨氣逃逸后不僅對含鹽污水的氨氮含量產(chǎn)生重要影響，且會與煙氣在的SO2及SO3反應(yīng)生成硫銨。因此，降低氨逃逸量是保證脫硝脫硫反應(yīng)正常運(yùn)行的重要標(biāo)準(zhǔn)。生產(chǎn)中增加聲波吹灰次數(shù)，脫硫塔上部設(shè)有硫銨母液洗滌段，嚴(yán)格控制脫硝出口氨逃逸率≤3.3ppm。隨著系統(tǒng)運(yùn)行時間延長，溶液中的氯離子濃度逐漸增高，會造成設(shè)備腐蝕加速。為此，脫硫系統(tǒng)需嚴(yán)格監(jiān)控氯離子濃度且定期外排含高氯離子的漿液，保證設(shè)備長效運(yùn)行。